EDI膜塊的化學(xué)清洗及再生方法

  雖然EDI膜塊的進水條件在很大的程度上減少了膜塊內(nèi)部阻塞的機會，但是隨著設(shè)備運行時間的延展，EDI膜塊內(nèi)部水道還是有可能產(chǎn)生阻塞，這主要是EDI進水中含有較多的溶質(zhì)，在濃水室中形成鹽的沉淀。如果進水中含有大量的鈣鎂離子（硬度超過0.8ppm）、CO2和較高的pH儀表值，將會加快沉淀的速度。遇到這種情況，我們可以通過化學(xué)清洗的方法對EDI膜塊進行清洗，使之恢復(fù)到原來的技術(shù)特性。

通常判斷EDI膜塊被污染堵塞可以從以下幾個方面進行評估判定：

1、在進水溫度、流量不變的情況下，進水側(cè)與產(chǎn)水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%。

2、在進水溫度、流量不變的情況下，濃水進水側(cè)與濃水排水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%。

3、在進水溫度、流量及電導(dǎo)率不變的情況下，產(chǎn)水水質(zhì)（電阻率）明顯下降。

4、在進水溫度、流量不變的情況下，濃水排水流量下降35%。

  膜塊堵塞的原因主要有下面幾種形式：顆粒/膠體污堵；無機物污堵；有機物污堵；微生物污堵。（EDI清洗注意：在清洗或消毒之前請先選擇合適的化學(xué)藥劑并熟悉安全操作規(guī)程，切不可在組件電源沒有切斷的狀態(tài)下進行化學(xué)清洗。）詳細如下：

1、顆粒/膠體污堵

  進水顆粒度≥5μm時會造成進水流道堵塞，引起膜塊內(nèi)部水流分布不均勻，從而導(dǎo)致 膜塊整體性能降低。如果EDI膜塊的進水不是直接由 RO產(chǎn)水端進入EDI膜塊，而是通過RO產(chǎn)水箱經(jīng)過增壓泵供水，建議在進入EDI膜塊前端增設(shè)保安過濾器（≤0.2μm）。在組裝EDI設(shè)備時，所有的連接管道系統(tǒng)應(yīng)沖洗干凈以預(yù)防管道內(nèi)的顆粒雜質(zhì)進入膜塊。

2、無機物污堵

  如果EDI進水含有較多的溶質(zhì)且超出設(shè)計值或者回收率超過設(shè)計值時,將導(dǎo)致濃水室和陰極室的結(jié)垢，生成鹽類物質(zhì)析出沉淀，通常結(jié)垢的類型為鈣、鎂離子生成的碳酸鹽。即便這類物質(zhì)的濃度很小，接觸時間也很短，但隨著運行時間的累加，仍有發(fā)生結(jié)垢的可能，這種硬度結(jié)垢很容易通過酸洗去除。按照方案1中的方法，使用低PH溶液在系統(tǒng)內(nèi)部循環(huán)清洗，可以去除濃水室和陰極室的結(jié)垢。

  當進水中的鐵和錳含量高，或者高TDS的水以外進入到EDI膜塊時，也會使淡水室的離子交換樹脂或者濃水室形成無機物污堵。3、有機物污堵

  當進水有機污染物TOC或TEA含量超過設(shè)計標準時，淡水室的離子交換樹脂和離子膜會發(fā)生有機污堵。