半導體激光氣體分析儀的校準方法

半導體激光氣體分析儀的校準周期約為3個月至半年以上。校準的基本方法是在校準氣室中通入標準氣體對分析儀進行校準，標準氣體的濃度由測量時被測氣體產生的吸收信號的大小決定。

對于采用原位測量方式的激光氣體分析儀，由于測量現場的溫度、壓力、光程與校準環境的溫度、壓力、光程有所差別，為了在校準環境下產生與測量現場相同的吸收率信號,校準使用的標準氣體濃度是經過等效計算的濃度值（該濃度往往與測量現場的滿量程濃度值不同)。因此，用戶在進行量程校準時，標準氣體應盡量使用儀表廠商推薦的濃度值。

進行校準時還需要注意以下幾點。

①在進行校準操作前，應依據廠商定的預熱方法對儀器進行充分預熱。

②在對原位式激光氣體分析儀進行校準時，一定要注意正確設定并輸入校準光程、溫度和壓力等參數。在完成校準操作之后進行現場測量時，應返回測量光程、溫度和壓力等參數。

③在進行量程校準前，建議先通入零點氣（采用高純氮氣)，對系統的測量零點進行檢查。一般來說激光氣體分析儀自身零點漂移極小，無需周期性調零,但若出現零點漂移時,可使用調零功能來講來進行校準。

④對于一些在校準時需要進行吹掃的激光氣體分析儀（如氧氣激光氣體分析儀)，一定要在校準前檢查吹掃氣的純度，防止因吹掃氣體含有被測組分而造成校準異常。

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